申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)： 01818940 一種銅拋光漿料可以通過(guò)將下列物質(zhì)組合在一起而形成：螯合有機(jī)酸緩沖體系，如檸檬酸和檸檬酸鉀；研磨劑，如膠體二氧化硅。這種銅拋光漿料在集成電路的制造中很有用，具體地說(shuō)，在銅和銅擴(kuò)散阻斷層的化學(xué)機(jī)械拋光中很有用。另一種銅拋光漿料可通過(guò)進(jìn)一步與氧化劑如過(guò)氧化氫，和／或腐蝕抑制劑如苯并三唑相組合而形成。按照本發(fā)明的漿料的優(yōu)良性質(zhì)包括：Ｃｕ的移除速率提高到＞３０００埃每分鐘。與現(xiàn)有技術(shù)相比，在獲得這一較高的拋光速率的同時(shí)維持了局部ｐＨ的穩(wěn)定性，并顯著減少了整體和局部腐蝕。局部ｐＨ的穩(wěn)定能夠減少晶片內(nèi)部的不均一性并減少腐蝕缺陷。而且，銅擴(kuò)散阻斷層，如鉭或氮化鉭，也可利用不包括氧化劑在內(nèi)的此類(lèi)漿料進(jìn)行拋光。
| 申請(qǐng)日： | 2001年10月29日 |
| 公開(kāi)日： | 2004年05月05日 |
| 授權(quán)公告日： | 2006年05月17日 |
| 申請(qǐng)人/專(zhuān)利權(quán)人： | 英特爾公司 |
| 申請(qǐng)人地址： | 美國(guó)加利福尼亞州 |
| 發(fā)明設(shè)計(jì)人： | 肯尼思·C·卡迪恩;安妮·E·米勒;艾倫·D·費(fèi)勒 |
| 專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu)： | 北京東方億思專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人： | 杜娟 |
| 專(zhuān)利類(lèi)型： | 發(fā)明專(zhuān)利 |
| 分類(lèi)號(hào)： | H01L21/768;H01L21/321 |
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